镀膜按类型划分,首先可以分为:干式镀膜和湿式镀膜两种。
其中干式镀膜主要有:真空蒸发镀膜、溅射镀膜、真空离子镀膜3种
真空蒸发镀膜可细分为:
电阻蒸发镀膜(适用于蒸发低熔点材料,如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等)
电子束蒸发镀膜(可蒸发难熔金属,如钼、钨、锗、二氧化硅、氧化铝等)
高频感应加热蒸发镀膜(蒸发速率达,蒸发源温度稳定,操作简单,对材料纯度要求较宽。)
电弧加热蒸发镀膜(特别适用于熔点高,同时具有一定导电性的材料,如石墨;装置简单,较廉价,缺点是放电产生的微米级颗粒会影响膜的一致性)
激光束蒸发镀膜(可蒸发任何高熔点材料)
反应蒸发镀膜(蒸镀难熔化合物,如氟化镁、氧化钡、氧化锡等)
溅射镀膜可分为:
直流二极溅射:仅适用于导电膜
直流三极溅射:仅适用于导电膜
直流四极溅射:仅适用于导电膜
射频溅射:采用射频电源,可镀氧化硅,氧化铝材料
对向靶溅射:可提高沉积速率,制取磁性铁、镍和其他磁性合金膜
离子束(ibs)溅射:利用离子源发出离子
磁控溅射:在直流二极溅射的基础上,在靶材后面安放了磁钢,使用弧光发电,用于蒸发源。
真空离子镀膜可分为:
阴极电弧离子镀:提高了沉积速率和膜的质量;还可生成致密均匀,附着力优良的化合物膜
空心阴极离子镀:使用空心阴极等离子电子束
多弧离子镀
湿式镀膜可分四种:
电镀
阳极氧化
化学镀
化学转化膜处理
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